| 氧化氮化膜、金属膜、光学膜、复合膜等 |
| 金属 | Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、Pd、Zn、Mo、W、Ta 、Nb等镀膜材料 |
| 非金属 | Si、SiO2、SiNx、Al2O3、HFO2、MgF2、Ta2O5、ITO等镀膜材料 |
| 基底 | 硅片、石英玻璃片、蓝宝石片、PET、Pi等 |
| 基底尺寸 | 2-8英寸 |
| 厚度 | nm级别、um级别，可按需定制 |
| 表面 | 单面、双面 |
| 电子束蒸发 | Ti，Al，Ni，Ag，Cu，Cr，Sn，Pt，AuGe |
| 磁控溅射 | Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Pt、Zn、Mo、W、Ta、Ru、Si、SiC、NiCr20、Nb |
| LPCVD（低压化学气相沉积） | SiNx，Poly-Si 片内均匀性：<±5% |
| PECVD（等离子体增强化学气相沉积） | SiO₂，SiNx，a-Si(B,P掺杂) |
| ALD原子层沉积 | Al2O3、HfO2、AlN、ZrO2、SiO2、TiN、TiO2 |
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