光刻胶 - 上海羿淳科技有限公司

光刻胶

光刻胶简介

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。可用于深硅刻蚀，适合于高深宽比工艺，透明度高，垂直度好。

光刻胶参数

上海羿淳科技提供多种类型及规格的光刻胶

类型	光刻胶型号	厚度/um	分辨率	适用工艺
AZ系列	AZ5214,AZ4620,AZ6130等	1-30um	1um	可用于深硅刻蚀
PI	LTC9000系列	4-50um	4um	用于非铜衬底工艺，固化温度最低可以达到250C°
电子束胶	HSQ Fox-15/16	100nm	350nm-810nm	高分辨率特性的光刻胶，抗刻蚀
Lift-off光刻胶	LOR/PMGI-SF系列	50nm-6um	高分辨率，双层lift-off的底层胶

案例展示