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专注半导体材料加工定制
一站式MEMS微纳加工服务
为高校、科研机构
提供微纳加工、封装、测试全流程服务
“匠心‘衬’就芯未来,光刻‘胶’筑科技梦
高端半导体材料智造者”
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MEMS代工
为高校 / 科研机构 / 企业提供MEMS代工服务
具备成熟的光刻、刻蚀、镀膜、键合、抛光等微纳加工技术,提供一站式MEMS代工服务
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我们产品涵盖各类硅片、玻璃片、滤光片、石英片、SOI片、光刻胶、光刻版等多种半导体材料
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上海羿淳科技有限公司,是一家专注于MEMS微纳加工、半导体材料制造及MEMS芯片设计的公司。产品涵盖各类硅片、玻璃片、石英片、SOI片、光刻胶、光刻版等多种半导体衬底材料,并提供多种基底材料的光刻、镀膜、刻蚀、键合、切割、抛光、减薄等微纳代工服务,为各大高校及科研机构提供各类半导体衬底材料定制、加工、全套MEMS微纳加工制造服务。
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半导体材料光刻掩膜版:微电子制造的关键要素
一、光刻掩膜版概述光刻掩膜版(Photomask)是半导体制造过程中不可或缺的关键元件,它如同集成电路的"底片",承载着设计好的电路图案。在光刻工艺中,掩膜版上的图案通过光学系统精确地转移到涂有光刻胶的硅片上,从而定义出集成电路的微观结构。随着半导体工艺节点不断缩小,从28nm到7nm再到更先进的5nm、3nm工艺,掩膜版的制作精度要求也随之提高,其质量直接影响到最终芯片的性能和良率。二、光刻掩膜
2025-07-23
半导体衬底材料在MEMS器件中的关键作用与应用进展
MEMS作为融合微电子技术与机械功能的核心技术,其性能与可靠性高度依赖衬底材料的选择。半导体衬底材料因其优异的电学、机械和热学特性,成为MEMS制造的理想载体。本文从硅、碳化硅、化合物半导体等主流材料出发,探讨其在MEMS中的应用优势及技术挑战。一、半导体衬底材料的核心特性与MEMS需求MEMS器件(如加速度计、陀螺仪、压力传感器等)对衬底材料提出以下要求:机械稳定性:高弹性模量和抗疲劳特性确保器
2025-06-18
11
2025-06
MEMS加工核心工艺:微纳制造的技术前沿
MEMS技术广泛应用于消费电子、汽车工业、航空航天等领域。MEMS技术的核心在于其独特的微纳加工工艺,这些工艺使得在微米甚至纳米尺度上制造复杂机械结构和电子器件成为可能。本文将系统介绍MEMS加工的核心工艺。一、MEMS核心工艺详解1.1光刻技术光刻是MEMS加工的基础工艺,决定了器件的特征尺寸和精度。MEMS光刻技术包括:紫外光刻(UV Lithography):分辨率可达亚微米级电子束光刻(E
05
2025-06
浅谈微纳加工中的薄膜沉积技术
引言微纳加工技术作为现代微电子、光电子、MEMS(微机电系统)等领域的基础工艺,其核心环节之一就是薄膜沉积技术。薄膜沉积是指在基底材料表面生长或覆盖一层厚度从几个纳米到几微米的薄膜材料的过程。随着器件尺寸不断缩小、性能要求不断提高,薄膜沉积技术在微纳加工中的重要性日益凸显。本文将系统介绍微纳加工中常见的薄膜沉积技术,分析其原理、特点及应用场景。一、物理气相沉积(PVD)技术物理气相沉积是通过物理方
28
2025-05
浅谈深硅刻蚀:微纳制造的关键技术
在MEMS、半导体封装、光学器件和生物芯片等领域,深硅刻蚀(Deep Silicon Etching, DSE)是一项至关重要的微纳加工技术。它能够在硅片上制造高深宽比的微结构,如深槽、通孔和复杂三维结构,为现代微型化器件提供了制造基础。本文将介绍深硅刻蚀的基本原理、主要工艺、关键技术挑战及其应用前景。深硅刻蚀的基本原理深硅刻蚀是一种通过物理或化学方式在硅衬底上形成高深宽比结构的微加工技术,主要包
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